IEC TS 62607-6-8-2023 PDF

Полное наименование и описание

IEC TS 62607-6-8:2023 — Nanomanufacturing — Key control characteristics — Part 6-8: Graphene — Sheet resistance: In-line four-point probe. Стандарт устанавливает методику определения ключевой характеристики управления — удельного сопротивления поверхности (sheet resistance, RS) для графена с использованием in-line четырёхточечной зонной (four-point probe, 4PP) измерительной методики.

Аннотация

Документ описывает процедуру измерения RS путём четырёхконтактных (четырёхэлектродных) измерений четырёхточечного сопротивления на планарном образце; охватывает диапазон измеряемых значений RS от 10−2 Ω/sq до 104 Ω/sq и применим к CVD‑графену, перенесённому на кварцевые или другие изолирующие подложки, а также к графену, выращенному на карбиде кремния. Метод дополняет метод ван дер Пау (van der Pauw, IEC 62607‑6‑7) и удобен в случаях, когда надёжное размещение контактов на границе образца затруднено.

Общая информация

• Статус: Техническая спецификация (Technical Specification), активна.
• Дата публикации: 7 июня 2023 г.
• Организация-издатель: Международная Электротехническая Комиссия (IEC), Технический комитет TC 113 — Nanotechnology for electrotechnical products and systems.
• ICS / категории: 07.120 (Nanotechnologies).
• Редакция / версия: Edition 1.0 (IEC TS 62607-6-8:2023).
• Количество страниц: 22 страницы.

Область применения

Стандарт предназначен для использования в контроле качества и метрологии при производстве и исследовании плёночных графеновых материалов (включая CVD‑графен и эпитаксиальный графен на SiC), когда необходимо оценить удельное сопротивление поверхности образцов с помощью in‑line четырёхточечной зонной установки. Метод особенно полезен для непрерывного (in‑line) измерения на производственных участках и там, где невозможно или нежелательно формировать контакты по краям образца для метода ван дер Пау.

Ключевые темы и требования

• Принцип измерения: in‑line four‑point probe (4PP) — четыре терминала/электрода, расположенные на поверхности планарного образца; RS выводится из четырёхконтактного сопротивления.
• Диапазон измерения RS: примерно 10−2 Ω/sq — 104 Ω/sq; требования к точности и учёту факторов неопределённости в этом диапазоне.
• Применимость проб: метод применим для CVD‑графена, перенесённого на кварцевые или другие изолирующие подложки (quartz, SiO2 на Si и т. п.), а также для графена, полученного на SiC; оговорены требования к образцам и подготовке контактов.
• Сопоставимость и дополнение: документ позиционируется как дополняющий метод ван дер Пау (IEC 62607‑6‑7) и рассматривает ситуации, когда vdP неприменим или неудобен.
• Указания по оформлению результатов: регистрация параметров измерений, температурных и климатических условий, калибровок оборудования и оценки неопределённости, включая вклад неоднородности образца.
• Практические рекомендации: размещение электродов, минимизация повреждений образца при контактировании, корректировки и калибровка измерительной цепи.

Применение и пользователи

Стандарт ориентирован на метрологические и лабораторные подразделения компаний и исследовательских центров, занимающихся разработкой и производством графеновых пленок и устройств (производители CVD‑графена, фабрики микроэлектроники и гибкой электроники, лаборатории контроля качества, центры стандартизации и калибровки). Также полезен для поставщиков измерительного оборудования и инженеров по технологическому контролю процессов.

Связанные стандарты

IEC TS 62607‑6‑8 является частью серии IEC 62607 «Nanomanufacturing — Key control characteristics». Непосредственно связан с IEC TS 62607‑6‑7 (Graphene — Sheet resistance: van der Pauw method), а также другими частями серии, касающимися характеристик графеновых и двумерных материалов (например, части, охватывающие контактное и поверхностное сопротивление, дефектность по раман‑спектроскопии и т. п.).

Ключевые слова

graphene, sheet resistance, RS, in-line four-point probe, 4PP, CVD graphene, van der Pauw, nanomanufacturing, TC 113, метрология наноматериалов.

FAQ

В: Что это за стандарт?

О: Это техническая спецификация IEC, задающая процедуру измерения удельного сопротивления поверхности графеновых плёнок методом in‑line четырёхточечной зонной измерительной системы (4PP).

В: Что он регулирует?

О: Описывает методику измерения sheet resistance (RS), требования к образцу и оборудованию, диапазон измерений (примерно 10−2 — 104 Ω/sq), а также указания по калибровке и оценке неопределённости результатов.

В: Кто обычно использует?

О: Инженеры по контролю качества и метрологи на предприятиях по производству графена, лаборатории исследовательских центров, поставщики и разработчики измерительного оборудования, а также специалисты по стандартизации и валидации процессов производства наноматериалов.

В: Он актуален или заменён?

О: Стандарт опубликован 7 июня 2023 г. и имеет статус действующей технической спецификации; по данным издателя срок стабильности/ожидаемой актуальности указан до 2028 г., что означает отсутствие немедленной замены на момент публикации.

В: Это часть серии?

О: Да — часть серии IEC 62607 «Nanomanufacturing — Key control characteristics», включающей отдельные части для различных типов наноматериалов и измерительных методов (включая IEC 62607‑6‑7, IEC 62607‑6‑5 и другие).

В: Какие ключевые слова?

О: graphene, sheet resistance, in-line four-point probe, 4PP, CVD, metrology, nanomanufacturing.